Samsung razvil 5-nm postopek proizvodnje čipov

Samsung je uspešno izpopolnil postopek za proizvodnjo čipov v 5-nm litografiji, ki uporablja ekstremno ultravijolično (EUV) tehnologijo. Trenutno je 7 nm najmanjši komercialno izvedljiv postopek, s katerim se proizvajajo na primer procesorji za Galaxy S10, nadaljnje pomanjševanje litografije pa je povezano z velikimi težavami. V nanometrskem merilu se namreč približujemo atomskemu merilu, prav tako pa je običajna svetloba predolgih valovnih dolžin, da bi bilo mogoče z njo jedkati vezja. Slednji problem rešuje EUV. Običajna ultravijolična litografija namreč uporablja valovne dolžine okrog 200 nm, medtem ko potrebujemo za EUV svetlobo pri 13,5 nm.

Novi čipi, ki jih bo proizvajal Samsung, bodo 25 odstotkov manjši in 20 odstotkov zmogljivejši od starejših v 7 nm. Prve komercialno dostopne primerke pričakujemo prihodnje leto, saj je sedaj na vrsti izboljševanje postopka, da se zmanjša izmet. Spomnimo, da je Samsung tovarno v Hwaseongu, kjer bodo nove čipe proizvajali, začel graditi pred dobrim letom dni, sedaj pa je nared. Samsung ne proizvaja le čipov zase, temveč tudi za druge stranke, denimo Qualcomm. Največjo konkurenco predstavljata TSMC in Intel, ki sta praktično edina večja proizvajalca čipov. Intel trenutno zaostaja pri miniaturizaciji, kjer so Tajvanci edini pravi konkurentje. Ti so že napovedali proizvodnjo prvih prototipov v 5 nm.